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顶 荐 氧化铈抛光粉
顶 荐 稀土抛光粉的制备技术
顶 荐 稀土抛光粉再生方法包括哪些?
顶 荐 低纳硅溶胶的用途具体有哪些
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TEHNICAL INFO
技术信息
荐 顶 氧化铈抛光粉
氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈（CeO2），其次分别为氧化镧（La2O3）、氧化镨（Pr2O3）、氧氟化镧（LaOF），此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。
荐 顶 稀土抛光粉的制备技术
稀土抛光粉是一种非常精细的氧化物，具有在抛光过程中去除表面缺陷并产生光滑表面的能力。粗糙的抛光粉不适合使用，一定要磨到不划伤表面的细度。较好的方法是使草酸盐、碳
荐 顶 稀土抛光粉再生方法包括哪些?
荐 顶 低纳硅溶胶的用途具体有哪些
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