一，抛光粉的基本成分是一些金属氧化物，如铁、铈、锆、铝、钛、铬等金属氧化物。根据用途有玻璃抛光粉，宝石抛光粉和大理石抛光粉等。作为玻璃作业常用的抛光粉有三氧化二铁(又称红粉)、铈基稀土抛光粉、氧化锆三类，其间铈基稀土抛光粉被誉为最好的抛光资料；宝石抛光粉有三氧化二铬，氧化铈和用高岭土制备的AL-Si尖晶石和莫来石抛光粉；大理石抛光粉是一种灰白色超细粉体的混合物，首要由a-Al2O3，SnO2和Pb组成。抛光粉作为玻璃，宝石和大理石作业中的抛光资料属传统运用领域，但随着高科技的翻开，特别是近年来，被广泛地运用于高科技领域和高精密功用性资料的抛光傍边(如光电信息资料、集成电路中的光掩模、高密度记载磁盘玻璃基板的制造等)。为了抵达高精密功用性资料所要求的条件，所要求的抛光粉产品的物性各不相同，其制备工艺也相应的在发生改动。在制备工艺、功用和运用等方面还存在着许多问题，需求不断改进和行进。因而寻求它们性质之间的彼此联络、最佳匹配联络、最佳工艺条件就成为了研讨的要害。

二，常用的抛光粉源于以铈为主的混合稀土，辅之以氟化物、石英、钙、钡、铁和少量其它杂质。抛光粉的制备工艺和出产方法在60～70年代有较为会合的研讨作用，常用的制备工艺是使稀土富集物在固态下发生化学改动，然后转化成机械和化学功用均安稳的化合物。其稀土氧化物含量为40～70%(含氧化铈30～65%)，粒度为1～4微米。这种抛光粉价格相对廉价，切削率高，运用较广。首要用于阴极射线管、平板玻璃和镜片的抛光。第二类氧化铈基抛光粉是用化学堆积法出产的，所得的稀土堆积经煅烧成为安稳的氧化物，并磨成细粉。常含稀土氧化物70～100%(含氧化铈40～100%)，这类产品的利益是成分均一，颗粒的规范和形状一致性好，但价格较高，首要用于光学玻璃、光掩膜和液晶显示屏的抛光。高铈抛光粉(含氧化铈99%以上)用于特种玻璃的抛光。其颗粒形状和硬度均匀，纯度高，因而抛出的外表均一，无缺点，无杂质污染。常用于精密光学仪器、激光晶体和半导体元件的抛光。稀土抛光粉与同类稀土产品的要求不同。就抛光粉而言，尽管对化学纯度也有要求，但不是挑选要素，而挑选要素是其物理性质。所以，稀土抛光粉的制备是在必定化学含量的基础上有必要赋予其应有的物理特性，如：粒度大小及其均匀性、晶体性质、硬度、比重等等。这些性质有必要在其制备进程中(包含堆积与煅烧)加以调控，首先是发生抛光粉的母体化合物(即各种稀土盐类化合物)及其堆积加工进程。由于它们挑选产品的粒度特征和晶体特性，如氢氧化铈、碳酸铈和草酸铈，它们的煅烧产品不论在粒度仍是抛光功用上均有较大的不同。