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氧化铈抛光粉

作者:深圳市川研科技有限公司 浏览: 发表时间:2022-08-23 10:00:00

氧化铈抛光粉主要成份为二氧化铈(CeO2),其次分别为氧化镧(La2O3)、氧化镨(Pr2O3)、氧氟化镧(LaOF),此外还含有微量的氧化硅、氧化铝和氧化钙。

氧化铈抛光粉广泛用于玻璃抛光,川研的氧化铈抛光粉具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高的优点。

氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉,其切削力和使用寿命也由低到高。由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能,所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用,如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。

高铈系稀土抛光粉,主要适用于精密光学镜头的高速抛光。该抛光粉的性能优良,抛光效果较好,由于价格较高,国内的使用量较少。中铈系稀土抛光粉,主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光,该抛光粉与高铈粉比较,可使抛光粉的液体浓度降低11% ,抛光速率提高35% ,制品的光洁度可提高一级,抛光粉的使用寿命可提高30% 。目前国内使用这种抛光粉的用量尚少,有待于今后继续开发新用途。低铈系稀土抛光粉,适用于电视机显像管、眼镜片和平板玻璃等的抛光。此外,其它抛光粉用于对光学仪器,摄像机和照相机镜头等的抛光,这类抛光粉国内用量最多,约国内总用量 85% 以上。


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