图片展示

钻石研磨垫

产品简介

产品简介

    • 基本信息
    • 粒径:X-4mic、C-9mic;
    • 尺寸:640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm;
    • 用途:光学器件、化合物半导体、玻璃晶圆、棱镜、陶瓷的研磨工艺;


    • 特性
    • 实现晶片稳定的高去除率和较低的表面粗糙度,更有利于后续的加工;
    • 相对于使用游离磨料更低的生产成本;
    • 更浅的亚表面损伤层;
    • 更加清洁的工作环境;
    • 节能环保,不需建立游离磨料废液沉淀池

  • 产品参数

    • 基本信息
    • 粒径:X-4mic、C-9mic;
    • 尺寸:640mm、860mm、880mm、980mm、1120mm;
    • 用途:光学器件、化合物半导体、玻璃晶圆、棱镜、陶瓷的研磨工艺;


    • 特性
    • 实现晶片稳定的高去除率和较低的表面粗糙度,更有利于后续的加工;
    • 相对于使用游离磨料更低的生产成本;
    • 更浅的亚表面损伤层;
    • 更加清洁的工作环境;
    • 节能环保,不需建立游离磨料废液沉淀池

1.磨料固结于研磨垫中,以实现高效及稳定的去除率,提高研磨效率> 2倍,缩短CMP时间> 20%,磨削率可达同等粒径砂浆研磨工艺的2倍以上

2.优化的磨粒层形状,以实现晶片加工后更高的表面质量,和保证优越的工件平面控制性能(TTV, Warp, Bow)。

3.无需混合浆料,节省时间并改善了工作场所的清洁度,无泥浆处理成本,节省环境清洁费用。

4.通过背胶与研磨盘粘贴,以实现便捷的安装和拆卸,固定的研磨垫可直接安装到现有机器板上,无需额外的资本投资


钻石研磨垫
长按识别二维码查看详情
长按图片保存/分享
询盘

咨询表单:

  • 请输入验证码

咨询内容:


你还没有添加任何产品

图片展示

首页      |      关于川研      |      产品中心      |      应用领域      |      川研动态      |      技术支持      

公司地址:广东省.深圳市.龙岗区横岗园山街道广达路68号贤达会展中心12层B

联系电话:0755-29365535

传       真:0755-29365755

电子邮箱:tony@sciyea.com

Copyright @ VillaGrandis All Rights Reserved  粤公网安备 44030702001912号

添加微信好友,详细了解产品
使用企业微信
“扫一扫”加入群聊
复制成功
添加微信好友,详细了解产品
我知道了