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硅溶胶/二氧化硅抛光液

产品简介

Sciyea二氧化硅抛光液主要由高纯度的氧化硅微粉所组成。可避免加工时易产生的刮伤现象,适用于工件的精抛,能达到工件要求的镜面效果,可替代同类进口产品。

产品简介

    • 基本信息
    • 适用于蓝宝石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不锈钢、镁铝合金、化合物半导体等抛光加工;
    • PH值稳定基本保持不变
    • 含量15-45(w%)
    • 广泛用于多种材料的纳米级化学机械抛光

     

    • 特性
    • 粒径均一(粒径分布窄,形貌成正球状)
    • 抛光效率高(特殊配方,PH稳定不变)
    • 高平坦度(表面质量Ra<0.2nm TTV<3um)
    • 循环次数多,使用寿命长
    • 结晶速度慢,性能稳定


  • 产品参数

    • 基本信息
    • 适用于蓝宝石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不锈钢、镁铝合金、化合物半导体等抛光加工;
    • PH值稳定基本保持不变
    • 含量15-45(w%)
    • 广泛用于多种材料的纳米级化学机械抛光

     

    • 特性
    • 粒径均一(粒径分布窄,形貌成正球状)
    • 抛光效率高(特殊配方,PH稳定不变)
    • 高平坦度(表面质量Ra<0.2nm TTV<3um)
    • 循环次数多,使用寿命长
    • 结晶速度慢,性能稳定


型号中心粒径(um)PH值应用领域

3800

20-4010.0单晶硅、碳化硅、砷化镓、激光晶体等化合物半导体。
380160-8010.0

蓝宝石衬底、激光晶体、光学晶体、铌酸锂、钽酸锂等。

380380-12010.5

激光晶体、精密金属、铝合金、氧化铝陶瓷。

3803S60-803.0

氮化铝陶瓷


硅溶胶/二氧化硅抛光液
Sciyea二氧化硅抛光液主要由高纯度的氧化硅微粉所组成。可避免加工时易产生的刮伤现象,适用于工件的精抛,能达到工件要求的镜面效果,可替代同类进口产品。
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