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硅溶胶/二氧化硅抛光液

产品简介

产品简介

    • 基本信息
    • 适用于蓝宝石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不锈钢、镁铝合金、化合物半导体等抛光加工;
    • PH值稳定基本保持不变
    • 含量15-45(w%)
    • 广泛用于多种材料的纳米级化学机械抛光

     

    • 特性
    • 粒径均一(粒径分布窄,形貌成正球状)
    • 抛光效率高(特殊配方,PH稳定不变)
    • 高平坦度(表面质量Ra<0.2nm TTV<3um)
    • 循环次数多,使用寿命长
    • 结晶速度慢,性能稳定


  • 产品参数

    • 基本信息
    • 适用于蓝宝石材料、超硬陶瓷材料、硅片、不锈钢、镁铝合金、化合物半导体等抛光加工;
    • PH值稳定基本保持不变
    • 含量15-45(w%)
    • 广泛用于多种材料的纳米级化学机械抛光

     

    • 特性
    • 粒径均一(粒径分布窄,形貌成正球状)
    • 抛光效率高(特殊配方,PH稳定不变)
    • 高平坦度(表面质量Ra<0.2nm TTV<3um)
    • 循环次数多,使用寿命长
    • 结晶速度慢,性能稳定


Sciyea硅溶胶/二氧化硅抛光液主要由高纯度的氧化硅微粉所制成。可避免加工时易产生的刮伤现象,适用于工件的精抛,能达到工件要求的镜面效果。抛光液针对不同抛光材料的特性进行独特的配方设计。抛光过程中PH值基本保持不变,从而保证抛光效果的稳定及节约抛光时间。广泛用于多种材料纳米级的化学机械抛光。

硅溶胶/二氧化硅抛光液
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