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2020 - 05 - 09
抛光液磨料的作用是将被抛光工件表层的凸起处去除,以提高工件表而的平整度。例如,对半导体晶片进行抛光时,借助于外力,磨料将晶片表而经过化学反应生成的钝化层去除,加工出所需的平整性。目前常用的磨料有二氧化硅胶体、氧化钵、氧化铝和纳米金刚石等。   腐蚀介质主要有酸和碱。酸性抛光液常采用有机酸,可起到腐蚀作用,增加抛光过程的去除率,但其腐蚀性大,选择性差,对抛光设备要求高,常用于铜、钨、钦等金属材料的抛光。目前的酸性抛光液中主要采用两类不同的有机酸:一类是带有多功能团的氨基酸,另一类是从简单梭酸、轻基梭酸和它们二者的混合酸中挑选出来的。研究发现,相对于单独使用任一类有机酸的抛光液,使用两类有机酸混合的抛光液的去除率较大。此外,有研究表明,随着抛光液pH值的增大,化学抛光占次要地位,机械抛光占主导作用,导致被抛光工件表而的质量下降,需加入有机酸进行调节。   碱性抛光液一般选用氢氧化钠、氢氧化钾、有机胺等碱性物质来调节抛光液的酸碱性。碱性抛光液的腐蚀性低,选择性高,常用于硅、氧化物、光阻材料等非金属材料的抛光。但是,碱性抛光液不容易找到氧化势能高的氧化剂,影响抛光效果。   助剂常用的有氧化剂、润滑剂、缓蚀剂、分散剂等。氧化剂能够在抛光工件表而形成氧化膜,有利于后续的机械抛光,从而提高抛光效率和表而平...
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2020 - 05 - 20
抛光粉在出厂之前也是要经过严格的检验才能够出厂的,同样的,生产出来的抛光粉自然是有好的,也有不好的,但是我们在生产的时候就要注意到,会影响产品不合格的因素都有哪些?这样我们才能更好的的避免这些问题,为我们的工提高效率,为产品提高质量。(1)粉体的粒度大小:决定了抛光精度和速度,常用多少目和粉体的平均粒度大小来。过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值,平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。(2)粉体莫氏硬度:硬度相对大的粉体具有较快的切削效果,同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果;不同的应用领域会有很大出入,包括自身加工工艺。(3)粉体悬浮性:好的粉要求抛光粉要有较好的悬浮性,粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响,片形及粒度细些的抛光粉的悬浮性相对的要好一些,但不是决对的。抛光粉悬浮性能的提高也可通过加悬浮液(剂)来改善。(4)粉体的晶型:粉体的晶型是团聚在一起的单晶颗粒,决定了粉体的切削性、耐磨性及流动性。粉体团聚在一起的单晶颗粒在抛光过程中分离(破碎),使其切削性、耐磨性逐渐下降,不规则的六边形晶型颗粒具有良好的切削性、耐磨性和流动性。(5)外观颜色:原料中Pr的含量及灼烧温度等因素有关,镨含量越高,其粉体显棕红色。低铈抛光粉中含有大量的镨(铈镨料),使其显棕红色。高铈抛光粉,灼烧温度越高,其显偏白粉色,温度低(900度左右),其显淡黄色。
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2020 - 05 - 29
抛光粉通常由氧化铈(VK-CE01)、氧化铝(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化铁、氧化锆(VK-R30F)、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。对ZF或F系列的玻璃来说,因为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。抛光粉的要求:(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;(2)有较高的纯度,不含机械杂质;(3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加LBD-1分散剂提高悬浮率;(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合。使用方法:(1)通常以擦地机用的红垫/白垫作为抛光的介质,但建议以羊毛毡的质地为最佳,另花岗石也可用钢丝棉作为抛光的介质。(2)将抛光粉置于地板面上,并洒上少许水,使成泥浆状。(3)将石板打抛到半干半湿的微热状态,抛光效果最佳。(4)使用后,务必在短时间内将地板的残余泥浆以清水冲洗,并...
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2019年9月4日-9月7日,历时三天,众星云集的第21届中国国际光电博览会在上周六于深圳会展中心圆满收官,深圳市川研科技有限公司作为抛光表面处理材料领域的领导者,带着业界的认可和客户的赞誉满载而归。       今年,深圳市川研科技有限公司(sciyea)再次亮相深圳光博会,作为国内光学元件表面处理材料的资深企业,我们深知自己的责任和使命,始终为行业提供优质的产品与专业的服务,做好客户的坚强后盾。      川研科技经过精心准备,凭借精湛技术水准,高效率的表面处理材料,以及优质的服务,吸引了众多中外客商的驻足观看与咨询洽谈。      在行业的16年间,深圳川研科技利用自身表面处理的行业经验和深厚技术沉淀,坚持为客户优中选优,始终为客户再多考虑一步的理念,帮助用户打造出高品质、高可靠性、高性价比的表面处理耗材。为全球的光学冷加工及半导体行业的硅片企业,提供专业的表面处理材料和解决方案,成为了众多知名企业的专业合作伙伴。      深圳川研将一直秉着解决客户问题,成就客户梦想的初心不断前行。      期待明年再与您相约深圳!
发布时间: 2019 - 09 - 16
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2019年7月19日,我公司销售工程师唐帅远赴福州参加由CIOE中国光博会和福州节能协会共同主办的“与光同行”光电产业研讨会。据悉,本次会议围绕主题“光学产品在通信、激光领域的应用”展开讨论。聚集了精密光学、光通信及激光行业资深专家,名企高管齐聚榕城,聚焦市场热点,共同探讨行业及持术及应用,增强光电领域交流与合作。峰会吸引了超过300位从事光学、光通信以及激光领域的专家、学者、科研人员、技术人员、生产人员、策划管理人员、研发人员、CIOE参展企业的参与。会议中,演讲嘉宾对光学行业尤其是上中游产业的转型、技术应用及市场趋势进行了深入分析与解读,使参与者收获颇多,也获得了行业的高度认可。通过此次会议,让我们更加深入的了解业内信息动态,结识更多业内朋友,与大家相互学习相互交流,为后期工作的顺利开展和为客户创造更多价值奠定一定的基础。二十世纪的中国,各类信息更新叠代的频率非常快,只有“走出去”看世界,只有持续不断的学习与交流,才能成为行业赛道中的专业赛手,成为业内的佼佼者。关于光学产业的创新发展应用还有更多话题需要关注,我公司将于今年9月4日至7日在深圳会展中心举办的CIOE中国光博会将针对光学产品、技术及其应用有更多展示。届时,敬请期待!
发布时间: 2019 - 07 - 26
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