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2020 - 05 - 29
抛光粉通常由氧化铈(VK-CE01)、氧化铝(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化铁、氧化锆(VK-R30F)、氧化铬等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化锆为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。对ZF或F系列的玻璃来说,因为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。抛光粉的要求:(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;(2)有较高的纯度,不含机械杂质;(3)有良好的分散性和吸附性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加LBD-1分散剂提高悬浮率;(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的尖角,以提高抛光效率;(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合。使用方法:(1)通常以擦地机用的红垫/白垫作为抛光的介质,但建议以羊毛毡的质地为最佳,另花岗石也可用钢丝棉作为抛光的介质。(2)将抛光粉置于地板面上,并洒上少许水,使成泥浆状。(3)将石板打抛到半干半湿的微热状态,抛光效果最佳。(4)使用后,务必在短时间内将地板的残余泥浆以清水冲洗,并...
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2020 - 06 - 04
常见的抛光粉及其应用稀土抛光粉稀土抛光粉主要是指氧化铈抛光粉,具有切削力强、抛光时间短、使用寿命长、抛光精度高等优点。氧化铈抛光粉根据氧化铈的含量分为低铈、中铈、高铈抛光粉,其切削力和使用寿命也由低到高。主要应用于光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。氧化铈抛光粉二、金刚石抛光粉金刚石抛光粉分为多晶金刚石微粉、单晶金刚石微粉、纳米金刚石、镀衣金刚石微粉。金刚石是采用优质金刚石为原料,经过球磨、分级和净化处理等严格工艺处理而成。主要用于:(1)工业上、科学上和医学上各种精密元器件的精磨或抛光加工;(2)用于树脂粘结工具、金属粘结工具以及电镀工具的制造;(3)作为精细磨料用于模具加工、宝玉石抛光加工、宝石轴承加工制造;(4)用作功能材料,例如:利用其热学性质和电学性质。单晶金刚石微粉3、纳米金刚石纳米金刚石是高能炸药在负氧条件下爆轰合成而制得的,在爆轰瞬间产生合成金刚石所必需的超高压和高温条件,同时炸药产生的游离碳原子就形成了纳米级的金刚石颗粒。纳米金刚石不同于通常的静压合成金刚石,没有棱角呈球形、单晶粒尺寸只有几个纳米。用于磁头、硬盘、宝石、硬质玻璃、陶瓷以及硬质合金的超精密抛光;4、镀衣金刚石微粉镀衣金刚石是利用先进的化学镀和复合镀工艺,通过表面处理使金刚石表面镀覆上一层金属,进而增加金刚石在切削、打磨工具中的附着力,延长工具使...
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2020 - 04 - 09
化学机械抛光已成为公认的纳米级精密超精密加工技术。它是一个动态的微细加工过程,在该过程中,化学抛光液中的组成成分与工件发生反应,在工件加工表面形成一层很薄、结合力较弱的生成物;而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对工件表面进行微量去除。此外,抛光过程化学抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。所以,化学抛光液在化学机械抛光过程中,在很大程度上决定着化学机械抛光能获得的抛光表面质量和抛光效率。  化学机械抛光液一般由去离子水、研磨剂、ph调节剂、氧化剂、分散剂等添加剂组成,根据ph值的不同分为酸性和碱性。化学抛光液及其组分的作用1磨料在抛光过程中,磨料主要作用于待加工的于工件表面,通过微切削、微划痕、滚压等方法去除表面材料。最理想的化学机械抛光工艺是磨料机械去除的表面材料的厚度等于化学反应产物层的厚度。此时,磨粒只需要较少的机械动作就可以去除结合力较弱的化学反应层的产物,从而可以减少或避免抛光表面缺陷。抛光液中磨料的硬度、粒度、形状和质量浓度决定了磨粒的去除行为和能力磨料相对于工件的硬度对磨料的作用机理有重要影响。当磨粒的硬度相对于工件,的硬度太大时,磨粒在抛光压力的作用下很容易嵌入工件的表面,在被抛光的表面留下痕迹和凹坑。如果磨粒的硬度与于工件,相比太小,加工时间就会延长。研究表明,纳米磨料在抛光过程中的变形与磨料的硬度成反比。低硬度纳米磨料由于其大变形,...
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川研和“与光同行”光电产业研讨会

发布日期: 2019-07-26
浏览人气: 38

2019719日,我公司销售工程师唐帅远赴福州参加由CIOE中国光博会和福州节能协会共同主办的“与光同行”光电产业研讨会。

据悉,本次会议围绕主题“光学产品在通信、激光领域的应用”展开讨论。聚集了精密光学、光通信及激光行业资深专家,名企高管齐聚榕城,聚焦市场热点,共同探讨行业及持术及应用,增强光电领域交流与合作。峰会吸引了超过300位从事光学、光通信以及激光领域的专家、学者、科研人员、技术人员、生产人员、策划管理人员、研发人员、CIOE参展企业的参与。

会议中,演讲嘉宾对光学行业尤其是上中游产业的转型、技术应用及市场趋势进行了深入分析与解读,使参与者收获颇多,也获得了行业的高度认可。

通过此次会议,让我们更加深入的了解业内信息动态,结识更多业内朋友,与大家相互学习相互交流,为后期工作的顺利开展和为客户创造更多价值奠定一定的基础。二十世纪的中国,各类信息更新叠代的频率非常快,只有“走出去”看世界,只有持续不断的学习与交流,才能成为行业赛道中的专业赛手,成为业内的佼佼者。

关于光学产业的创新发展应用还有更多话题需要关注,我公司将于今年94日至7日在深圳会展中心举办的CIOE中国光博会将针对光学产品、技术及其应用有更多展示。届时,敬请期待!


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