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2020 - 04 - 09
化学机械抛光已成为公认的纳米级精密超精密加工技术。它是一个动态的微细加工过程,在该过程中,化学抛光液中的组成成分与工件发生反应,在工件加工表面形成一层很薄、结合力较弱的生成物;而抛光液中磨粒在压力和摩擦作用下对工件表面进行微量去除。此外,抛光过程化学抛光液还通过在抛光区域形成流体膜以及带动磨粒在抛光区运动影响抛光过程。所以,化学抛光液在化学机械抛光过程中,在很大程度上决定着化学机械抛光能获得的抛光表面质量和抛光效率。  化学机械抛光液一般由去离子水、研磨剂、ph调节剂、氧化剂、分散剂等添加剂组成,根据ph值的不同分为酸性和碱性。化学抛光液及其组分的作用1磨料在抛光过程中,磨料主要作用于待加工的于工件表面,通过微切削、微划痕、滚压等方法去除表面材料。最理想的化学机械抛光工艺是磨料机械去除的表面材料的厚度等于化学反应产物层的厚度。此时,磨粒只需要较少的机械动作就可以去除结合力较弱的化学反应层的产物,从而可以减少或避免抛光表面缺陷。抛光液中磨料的硬度、粒度、形状和质量浓度决定了磨粒的去除行为和能力磨料相对于工件的硬度对磨料的作用机理有重要影响。当磨粒的硬度相对于工件,的硬度太大时,磨粒在抛光压力的作用下很容易嵌入工件的表面,在被抛光的表面留下痕迹和凹坑。如果磨粒的硬度与于工件,相比太小,加工时间就会延长。研究表明,纳米磨料在抛光过程中的变形与磨料的硬度成反比。低硬度纳米磨料由于其大变形,...
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2020 - 04 - 15
抛光液的主要成分:金刚石抛光液(多晶金刚石抛光液、单晶金刚石抛光液和纳米金刚石抛光液)、氧化硅抛光液(即CMP抛光液)、氧化铈抛光液、氧化铝抛光液和碳化硅抛光液等几类。 抛光液是一种不含任何硫、磷、氯添加剂的水溶性抛光剂,具有良好的去油污,防锈,清洗和增光性能,并能使金属制品超过原有的光泽。本产品性能稳定、无毒,对环境无污染等作用,光液使用方法:包括棘轮扳手、开口扳手,批咀、套筒扳手,六角扳手,螺丝刀等,铅锡合金、锌合金等金属产品经过研磨以后,再使用抛光剂配合振动研磨光饰机,滚桶式研磨光式机进行抛光;1抛光剂投放量为(根据不同产品的大小,光饰机的大小和各公司的产品光亮度要求进行适当配置),2:抛光时间:根据产品的状态来定。3、抛光完成后用清水清洗一次并且烘干即可。
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2020 - 04 - 22
一.抛光粉的总类:抛光粉通常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等组份组成,不同的材料的硬度不同,在水中的化学性质也不同,因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9,氧化铈和氧化硅为7,氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高,硬度也相当,因此广泛用于玻璃的抛光。为了增加氧化铈的抛光速度,通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加磨削率。铈含量较低的混合稀土抛光粉通常掺有3-8的氟;纯氧化铈抛光粉通常不掺氟。对ZF或F系列的玻璃来说,因为本身硬度较小,而且材料本身的氟含量较高,因此因选用不含氟的抛光粉为好。二.对抛光粉的基本要求:(1)微粉粒度均匀一致,在允许的范围之内;(2)有较高的纯度,不含机械杂质;(3)有良好的分散性,以保证加工过程的均匀和高效,可适量添加分散剂提高悬浮率;(4)粉末颗粒有一定的晶格形态,破碎时形成锐利的棱角,以提高抛光效率;(5)有合适的硬度和密度,和水有很好的浸润性和悬浮性,因为抛光粉需要与水混合
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产品名称:

吸附垫

上市日期: 2017-01-02

产品用于吸附,固定被加工产品,广泛被采用于TFT/STN/素玻璃/石英光罩/光学玻璃,面板显示器产业及光学产业等玻璃相关抛光用途。

 

保存条件:

温度范围=10℃~30℃
湿度范围≦70%

 

储存方法:
存放于阴凉、干燥、通风良好以及阳光无法直接照射的地方,远离热源、火源及不相容物。

产品类别: 吸附垫
  • 产品描述
  • 产品功能
  • 产品参数

一、产品描述:

1. 产品应用于吸附、固定被加工对象,广泛应用于TFT/STN、素玻璃、石英光罩、光学玻璃、面板显示器及光学产业等玻璃相关抛光用途.

2 产品具有独特的孔隙结构.吸附被抛光的对象时,性能就如真空状态吸附住被抛光的物体.

3. 产品的复合结构与感压胶设计确保产品具有高的压缩率及压缩回弹率,为中高压研磨制程提供了优异平面基础.

4. 产品有不易沾粘泥浆、易于清洗、下片容易、耐酸碱、使用寿命长等特点。

 

二、使用方法:

1 撕去双面胶,固定贴合于机器上;

2 使用吸水海绵块在吸附面上来回擦拭2-3次,让吸附面吸收水分,隔1分钟后,再用湿布擦拭吸附表面水迹即可进行研磨抛光操作.

3. 产品正确安装和使用,连续工作寿命在300小时以上.

4. 产品在粘在某台机器上后,不建议再撕下来重新粘到另外一台机器上(撕下过程中易导致吸附垫出现折纹).

 

 

保存条件:

温度范围: 10℃~30 ℃

湿度范围: ≦70%

储存方法: 存放于阴凉、干燥、通风良好以及阳光 无法直接照射的地方勿重压,堆栈勿超过三层。

 

 

 

产品关键词:

液晶玻璃吸附垫, STN吸附垫, TFT吸附垫, 陶瓷吸附垫, 光学玻璃吸附垫, FUJIBO 吸附垫, Back pad, Holding pad, 玻璃抛光吸附垫, 吸附垫, 玻璃吸附垫, 石英吸附垫,玻璃吸附垫,研磨吸附垫,

 

 

一、产品描述:

1. 产品应用于吸附、固定被加工对象,广泛应用于TFT/STN、素玻璃、石英光罩、光学玻璃、面板显示器及光学产业等玻璃相关抛光用途.

2 产品具有独特的孔隙结构.吸附被抛光的对象时,性能就如真空状态吸附住被抛光的物体.

3. 产品的复合结构与感压胶设计确保产品具有高的压缩率及压缩回弹率,为中高压研磨制程提供了优异平面基础.

4. 产品有不易沾粘泥浆、易于清洗、下片容易、耐酸碱、使用寿命长等特点。

 

二、使用方法:

1 撕去双面胶,固定贴合于机器上;

2 使用吸水海绵块在吸附面上来回擦拭2-3次,让吸附面吸收水分,隔1分钟后,再用湿布擦拭吸附表面水迹即可进行研磨抛光操作.

3. 产品正确安装和使用,连续工作寿命在300小时以上.

4. 产品在粘在某台机器上后,不建议再撕下来重新粘到另外一台机器上(撕下过程中易导致吸附垫出现折纹).

 

 

保存条件:

温度范围: 10℃~30 ℃

湿度范围: ≦70%

储存方法: 存放于阴凉、干燥、通风良好以及阳光 无法直接照射的地方勿重压,堆栈勿超过三层。

 

 

 

产品关键词:

液晶玻璃吸附垫, STN吸附垫, TFT吸附垫, 陶瓷吸附垫, 光学玻璃吸附垫, FUJIBO 吸附垫, Back pad, Holding pad, 玻璃抛光吸附垫, 吸附垫, 玻璃吸附垫, 石英吸附垫,玻璃吸附垫,研磨吸附垫,

 

 

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