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氧化铝抛光液

产品简介

产品简介

    • 基本信息
    • 适用于半导体、硬质玻璃、金属、不锈钢、铝合金、钨钼材料。
    • 在保持高切削力的同时,能达到精密的抛光、研磨效果;
    • 可根据客户需求提供更多不同粒径的抛光液;
    • 颗粒分散均匀,不团聚,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷;
    • 颗粒粒径分布适中,最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度;
    • 运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。

    • 特性
    • 纯度高
    • 切削力佳
    • 可达纳米级范围;
    • 易清洗;
    • 颗粒度均匀;



  • 产品参数

    • 基本信息
    • 适用于半导体、硬质玻璃、金属、不锈钢、铝合金、钨钼材料。
    • 在保持高切削力的同时,能达到精密的抛光、研磨效果;
    • 可根据客户需求提供更多不同粒径的抛光液;
    • 颗粒分散均匀,不团聚,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷;
    • 颗粒粒径分布适中,最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度;
    • 运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。

    • 特性
    • 纯度高
    • 切削力佳
    • 可达纳米级范围;
    • 易清洗;
    • 颗粒度均匀;



型号PH值中心粒径(um)固含量(%)应用领域

AI213A

14.01.6-2.0um21.5蓝宝石衬底、窗口
AI560513.51.2-1.4um20.0

蓝宝石衬底

AI560013.50.6-0.8um21.0蓝宝石窗口/光学
AI569513.80.1-0.2um20.0红外/晶体/锗片/硫系
AS804.50.8-1.0um16.0树脂镜片
AI8014-60.2-0.4um10.0碳化硅、氮化镓
AI8024-60.4-0.6um10.0碳化硅、氮化镓


氧化铝抛光液
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