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APPLICATION FIELD 应用领域

应用领域系列

化合物半导体

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半导体材料可分为单质半导体及化合物半导体两类,前者如硅(Si)、锗(Ge)等所形成 的半导体,后者为砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等化合物形成。半导 体在过去主要经历了三代变化。砷化镓(GaAs)、 氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)半导体分别作为第二代和第三代半导体的代表,相比第一代半导体高频性能、高温性能优 异很多,制造成本也更为高昂。


化合物半导体

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半导体材料可分为单质半导体及化合物半导体两类,前者如硅(Si)、锗(Ge)等所形成 的半导体,后者为砷化镓(GaAs)、氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等化合物形成。半导 体在过去主要经历了三代变化。砷化镓(GaAs)、 氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)半导体分别作为第二代和第三代半导体的代表,相比第一代半导体高频性能、高温性能优 异很多,制造成本也更为高昂。

化合物半导体抛光垫

应用领域

合成纤维抛光垫

介绍:获得没有缺陷的晶片表面,此款抛光垫可以对碳化硅、砷化镓、磷化铟、陶瓷、硅片、蓝宝石、光学玻璃、等材质或工件的抛光。

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研磨垫

介绍:实现晶片稳定的高去除率和较低的表面粗糙度,更有利于后续的加工。此款抛光垫可以对碳化硅、砷化镓、磷化铟、平板光学眼镜和棱镜、IC基板、陶瓷、硅片、蓝宝石、等材质或工件的抛光。

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合成纤维抛光垫

获得没有缺陷的晶片表面,此款抛光垫可以对碳化硅、砷化镓、磷化铟、陶瓷、硅片、蓝宝石、光学玻璃、等材质或工件的抛光。

研磨垫

实现晶片稳定的高去除率和较低的表面粗糙度,更有利于后续的加工。此款抛光垫可以对碳化硅、砷化镓、磷化铟、平板光学眼镜和棱镜、IC基板、陶瓷、硅片、蓝宝石、等材质或工件的抛光。

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化合物半导体抛光液

化合物半导体抛光液

氧化硅抛光液

 介绍:主要由高纯度的氧化硅微粉所组成,适用于工件精抛,可根据需求提供不同粒径产品。

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氧化硅抛光液

主要由高纯度的氧化硅微粉所组成,适用于工件精抛,可根据需求提供不同粒径产品。

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