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06-08

抛光粉的使用及要求

抛光粉通常由氧化铈(VK-CE01)、氧化铝(VK-L30F)、氧化硅(VK-SP50F)、氧化铁、氧化锆(VK-R30F)、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。为了增加氧化铈的抛光速度，通常在氧化铈抛光粉加入氟以增加
06-04

影响抛光粉指标因素都有哪些？

抛光粉在出厂之前也是要经过严格的检验才能够出厂的，同样的，生产出来的抛光粉自然是有好的，也有不好的，但是我们在生产的时候就要注意到，会影响产品不合格的因素都有哪些？这样我们才能更好的的避免这些问题，为我们的工提高效率，为产品提高质量。
06-01

抛光粉具体的性能指标

抛光粉具体的性能指标有哪些？抛光粉的性能如何？你都了解多少呢？抛光粉颗粒巨细：决定了抛光精度和速率，一般用目数和均匀颗粒大小来表征。过筛目数反应了最大颗粒的大小，均匀粒度决定了废抛光粉颗粒大小的整体程度。
09-16

深圳川研科技参展第21届CIOE 圆满落幕

2019年9月4日-9月7日，历时三天，众星云集的第21届中国国际光电博览会在上周六于深圳会展中心圆满收官，深圳市川研科技有限公司作为抛光表面处理材料领域的领导者，带着业界的认可和客户的赞誉满载而归。今年，深圳市川研科技有限公司（sciyea）再次亮相深圳光博会，作为国内光学元件表面处理材料的资深企业，我们深知自己的责任和使命，始终为行业提供优质的产品与专业的服务，做好客户的坚强
06-13

抛光液的作用

抛光液磨料的作用是将被抛光工件表层的凸起处去除，以提高工件表而的平整度。例如，对半导体晶片进行抛光时，借助于外力，磨料将晶片表而经过化学反应生成的钝化层去除，加工出所需的平整性。目前常用的磨料有二氧化硅胶体、氧化钵、氧化铝和纳米金刚石等。

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