图片展示

金刚石研磨液

产品简介

Sciyea金刚石研磨液包括多晶、单晶、纳米、油性、水性多种不同类型。由优质的金刚石微粉复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,适用不同的研抛过程和工件。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,能广泛用于硬质材料的研磨和抛光。

产品简介

    • 基本信息
    • 适用于蓝宝石、半导体、陶瓷、金属材料、光学晶体的加工。
    • 单晶:具有良好的切削力,加工成本相对较低,广泛应用于超硬材料的研磨抛光。;
    • 多晶:利用聚晶金刚石的特性,在研抛过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤;
    • 颗粒分散均匀,不团聚,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷;
    • 颗粒粒径分布适中,最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度;
    • 运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。

    • 特性
    • 晶粒尺寸微细、晶型完好
    • 比重大,具有良好的分散性
    • 颗粒细小均匀无团聚,适合于镜面精抛光用途


  • 产品参数

    • 基本信息
    • 适用于蓝宝石、半导体、陶瓷、金属材料、光学晶体的加工。
    • 单晶:具有良好的切削力,加工成本相对较低,广泛应用于超硬材料的研磨抛光。;
    • 多晶:利用聚晶金刚石的特性,在研抛过程中保持高切削效率的同时不易对工件产生划伤;
    • 颗粒分散均匀,不团聚,有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷;
    • 颗粒粒径分布适中,最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率,可以提高抛光精度;
    • 运用抛光过程中的化学新作用,提高抛光速度,改善抛光表面的质量。

    • 特性
    • 晶粒尺寸微细、晶型完好
    • 比重大,具有良好的分散性
    • 颗粒细小均匀无团聚,适合于镜面精抛光用途


单晶/多晶/类多晶
D50(um)
0.1250.250.500.75
D50(um)1.002.002.503.00
D50(um)4.005.006.007.00
D50(um)8.009.0010.00更多
纳米金刚石
D50(um)30nm50nm100nm

未分级产品

一次粒径4-7nm


金刚石研磨液
Sciyea金刚石研磨液包括多晶、单晶、纳米、油性、水性多种不同类型。由优质的金刚石微粉复合分散剂和分散介质组成,配方多样化,适用不同的研抛过程和工件。产品分散性好、粒度均匀、规格齐全、质量稳定,能广泛用于硬质材料的研磨和抛光。
长按识别二维码查看详情
长按图片保存/分享
询盘

咨询表单:

  • 请输入验证码

咨询内容:


你还没有添加任何产品

加入成功
图片展示

首页      |      关于川研      |      产品中心      |      应用领域      |      川研动态      |      技术支持      

公司地址:广东省.深圳市.龙岗区园山街道广达路57号花生U谷办公楼

联系电话:0755-29365535

传       真:0755-29365755

电子邮箱:zxc@sciyea.com

Copyright @ VillaGrandis All Rights Reserved  粤公网安备 44030702001912号

添加微信好友,详细了解产品
使用企业微信
“扫一扫”加入群聊
复制成功
添加微信好友,详细了解产品
我知道了