氧化铝抛光粉
产品简介Sciyea氧化铝抛光粉，严格控制粒径和改善粒子表面特性的基础上研发生产。在加工过程中，此聚集的结晶颗粒快速裂变和破碎，以达到提高切削力和表面质量的要求。适用于硅、锗、砷化镓、磷化铟、钽酸锂等材料。可完美替代进口产品。
产品简介
- 基本信息
- 适用于半导体、蓝宝石、硬质玻璃、金属、不锈钢、铝合金、钨钼材料。
- 在保持高切削力的同时，能达到精密的抛光、研磨效果；
- 可根据客户需求提供更多不同粒径的抛光液；
- 颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷；
- 颗粒粒径分布适中，最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度；
- 运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。
- 特性
- 纯度高
- 切削力高
- 可达纳米级范围
- 颗粒度均匀
- 稳定性好
- 粗糙度高
- 产品参数
- 基本信息
- 适用于半导体、蓝宝石、硬质玻璃、金属、不锈钢、铝合金、钨钼材料。
- 在保持高切削力的同时，能达到精密的抛光、研磨效果；
- 可根据客户需求提供更多不同粒径的抛光液；
- 颗粒分散均匀，不团聚，有效避免抛光过程中由于颗粒团聚导致的工件表面划伤缺陷；
- 颗粒粒径分布适中，最大程度提升抛光速率的同时降低微划伤的概率，可以提高抛光精度；
- 运用抛光过程中的化学新作用，提高抛光速度，改善抛光表面的质量。
- 特性
- 纯度高
- 切削力高
- 可达纳米级范围
- 颗粒度均匀
- 稳定性好
- 粗糙度高
粒度 | 中心粒径um | 粒径 | 中心粒径 | 粒度 | 中心粒径 |
#240 | 58.6±3.0 | #700 | 17.9±1.3 | #3000 | 4.00±0.50 |
| #280 | 49.4±3.0 | #800 | 14.7±1.3 | #4000 | 3.00±0.40 |
| #320 | 41.4±2.5 | #1000 | 11.9±1.0 | #6000 | 2.00±0.40 |
| #360 | 36.1±2.0 | #1200 | 9.90±0.80 | #8000 | 1.20±0.30 |
| #400 | 30.9±2.0 | #1500 | 8.40±0.60 | #10000 | 0.51~0.70 |
| #500 | 26.4±2.0 | #2000 | 6.90±0.50 | #20000 | 0.50※（2） |
| #600 | 21.1±1.5 | #2500 | 5.60±0.50 | #30000 | 0.32※（1.3） |
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